Shanghai Micro Electronics Equipment

▎История компании

Компания SMEE была основана в 2002 году Хэ Ронгмином, который ранее занимал пост вице-президента Shanghai Electric. Первоначально она представляла собой исследовательский проект в области литографических машин, инициированный в рамках Программы 863. После нескольких лет исследований SMEE представила свою первую отечественную литографическую машину для коммерческого использования.

В декабре 2017 года SMEE подписала соглашение с CSC Financial для подготовки к выходу на публичный рынок. В процессе этого SMEE привлекла финансирование от таких инвесторов, как China Everbright Limited. В результате изменений в руководстве Хэ Ронгмин покинул компанию в начале 2018 года.

▎История продукта

На момент 2023 года самым современным продуктом SMEE для производства полупроводниковых чипов front-end был SSA600, который обладает разрешением сканирования для изготовления кремниевых чипов интегральных схем с технологией 90 нм. Машины серии SSA600 были охарактеризованы как инструменты для иммерсионной глубокой ультрафиолетовой литографии, использующие эксимерный лазер на фториде аргона (ArF) с длиной волны 193 нм.

▎SSA800x (декабрь 2023 г.)

В декабре 2023 года западные СМИ сообщили о завершении первоначальной разработки новой машины для иммерсионной литографии SSA800-10W, которая позволяет производить чипы с технологией 28 нм. Сообщается, что образцы новой машины могли быть поставлены таким производителям, как SMIC, и научно-исследовательским институтам. SSA800 по-прежнему использует ArF-лазер в качестве источника света, но включает более современные инструменты и компоненты, позволяющие создавать элементы схем, соответствующие технологии 28 нм. По информации западных СМИ, конструкция SSA800 не содержит компонентов с интеллектуальной собственностью из США. Некоторые аналитики предполагают, что китайское правительство могло попросить SMEE провести сравнение своей системы DUV с аналогичной системой ASML NXT:2000i, и что SSA800 является частью полностью отечественной производственной линии, которая сейчас проходит тестирование и сертификацию. На начало 2024 года новая литографическая машина SSA800 еще не была указана на сайте SMEE в разделе продукции.

В будущем версия SSA800 может быть адаптирована для процессов ниже 28 нм с использованием технологии многошаблонного формирования. Методы фотолитографии, разработанные в этой области, могут позволить иммерсионным литографическим машинам с ArF-лазером формировать элементы интегральных схем с технологиями до 7 нм или даже 5 нм. Например, в 2016 году сообщалось, что новый 10 нм процесс Intel использовал иммерсионные DUV машины в сочетании с самосовмещенными методами двойного формирования для достижения необходимого размера элементов схемы без применения новейшей технологии EUV фотолитографии.

Машина SSA800 от SMEE отстает по срокам от лидера отрасли ASML Holding: ASML впервые поставила TSMC машины, способные работать по технологии 28 нм, еще в 2011 году.

▎Ассортимент продукции до 2023 г.

До появления серии сканеров SSA800 в 2023 году SMEE разработала ряд литографического, метрологического и производственного оборудования, включая четыре серии машин для производства интерфейсных интегральных схем (например, сканеры серии SSA600), а также для корпусов внутренних ИС, светодиодов, МЭМС, силовых ИС-устройств и тонкопленочных транзисторов.